Nalazite se na CroRIS probnoj okolini. Ovdje evidentirani podaci neće biti pohranjeni u Informacijskom sustavu znanosti RH. Ako je ovo greška, CroRIS produkcijskoj okolini moguće je pristupi putem poveznice www.croris.hr
izvor podataka: crosbi !

Poluvodička svojstva anodno formiranih oksidnih filmova na kositru (CROSBI ID 332157)

Ocjenski rad | diplomski rad

ELtamih, Elmahdi Poluvodička svojstva anodno formiranih oksidnih filmova na kositru / Metikoš - Huković, Mirjana (mentor); Metikoš - Huković, Mirjana (neposredni voditelj). Zagreb, Fakultet kemijskog inženjerstva i tehnologije, . 1998

Podaci o odgovornosti

ELtamih, Elmahdi

Metikoš - Huković, Mirjana

Metikoš - Huković, Mirjana

hrvatski

Poluvodička svojstva anodno formiranih oksidnih filmova na kositru

Istraživana su električka, dielektrička i elektronska svojstva anodno formiranih Sn-oksidnih filmova na kositru u Na-citratnom puferu pH=6.0. Analiza impedancijskih spektara u kombinaciji s cikličkom voltametrijom pokazala je da se anodnom polarizacijom na površini kositra stvaraju filmovi dupleks strukture, koji imaju svojstava poluvodiča n-tipa i izuzetnu korozijsku stabilnost. Utvrđeno je da je unutrašnji film na kositru sastava SnO_2, a vanjski visoko hidratizirani Sn(IV)-oksid, pod utjecajem polarizacije, vremena i temperature prelazi u termodinamički stabilniju i djelomično hidratiziranu formu SnO_2 x xH_2O. Pokazano je da se rapodjela naboja unutar dupleks sloja može opisati Mott-Schottky relacijom, te su izračunati potencijali ravnih vrpci E_fb, i koncentracije donora N_D za oba sloja. Dobivene vrijednosti upućuju na visok stupanj elektronske vodljivosti Sn(IV)-oksidnih filmova.

kositar; dupleks oksidni filmovi; poluvodič; Mott-Schottky; potencijal ravnih vrpci; koncentracija donora

nije evidentirano

engleski

Semiconducting properties of anodically formed oxide films on tin

nije evidentirano

tin; duplex oxide films; semiconductors; Mott-Schottky; flat band potential; donor concentration

nije evidentirano

Podaci o izdanju

51

23.01.1998.

obranjeno

Podaci o ustanovi koja je dodijelila akademski stupanj

Fakultet kemijskog inženjerstva i tehnologije

Zagreb

Povezanost rada

Kemija