Nalazite se na CroRIS probnoj okolini. Ovdje evidentirani podaci neće biti pohranjeni u Informacijskom sustavu znanosti RH. Ako je ovo greška, CroRIS produkcijskoj okolini moguće je pristupi putem poveznice www.croris.hr
izvor podataka: crosbi !

In-Situ Monitoring of Etching and Deposition Processes for Optoelectronic Device Fabrication (CROSBI ID 650557)

Prilog sa skupa u zborniku | izvorni znanstveni rad | međunarodna recenzija

Hu, E. L. ; Babić, D. I. ; Skidmore, J. A. ; Strand, T. ; Schramm, J. In-Situ Monitoring of Etching and Deposition Processes for Optoelectronic Device Fabrication // Proceedings of the IEEE Lasers and Electro-Optics Society 1992 Annual Meeting, paper AOD 1.2. 1992

Podaci o odgovornosti

Hu, E. L. ; Babić, D. I. ; Skidmore, J. A. ; Strand, T. ; Schramm, J.

engleski

In-Situ Monitoring of Etching and Deposition Processes for Optoelectronic Device Fabrication

In-Situ Monitoring of Etching and Deposition Processes for Optoelectronic Device Fabrication

Depositio ; Optoelectronic ; Devices ; Fabrication

nije evidentirano

nije evidentirano

nije evidentirano

nije evidentirano

nije evidentirano

nije evidentirano

Podaci o prilogu

1992.

objavljeno

Podaci o matičnoj publikaciji

Proceedings of the IEEE Lasers and Electro-Optics Society 1992 Annual Meeting, paper AOD 1.2

Podaci o skupu

IEEE Lasers and Electro-Optics Society 1992 Annual Meeting

pozvano predavanje

16.11.1992-19.11.1992

Boston (MA), Sjedinjene Američke Države

Povezanost rada

Povezane osobe




nije evidentirano