hrvatski

Istraživanje elektroredukcije površinskih oksidnih slojeva na bakru i kositru

Istraživanje mehanizma formiranja i katodičke dekompozicije oksidnih filmova na bakru i kositru, metalima koji nalaze široku primjenu u elektroničkoj industriji. Spontano formirani oksidni filmovi podebljavani su anodnom polarizacijom u Na-boratnom puferu pH = 8.4, tj. uvjetima njihove najveće termodinamičke stabilnosti. Na površinama oba metala stvaraju se poluvodički oksidni filmovi, dupleks strukture, koji sprečavaju spajanje metala u procesu lemljenja. Pokazano je da vanjski, nestehiometrijski, hidratizirani film Cu(II)oksida, sastava CuO_x(OH)_2-2x (x = 0 - 1) raste na već formiranom Cu_2O filmu. Unutrašnji film na kositru je sastava SnO_2, a vanjski hidratizirani Sn(IV)-oksid, pod utjecajem polarizacije, vremena i temperature prelazi u termodinamički stabilniju formu SnO_2. Međutim, oksidni filmovi formirani na bakru i kositru mogu se elektrokemijskim putem reducirati do metala. Redukcija se odvija u čvrstoj fazi, tj. prema čvrstofaznom mehanizmu, karakterističnom za poluvodičke materijale s polarnom vezom i širokom zabranjenom zonom, a njen jedini produkt je voda. Utvrđeno je da kronopotenciometrijska stupnjevita redukcijska analiza predstavlja nedestruktivnu, aparativno nezahtjevnu, ekološki čistu metodu za procjenu kvalitete lemljivosti elektroničkih elemenata na vodljive ploče.

bakar; kositar; oksidni filmovi; elektroredukcija; poluvodiči; lemljivost; ciklička voltametrija; kronopotenciometrija

nije evidentirano