hrvatski

Kompaktni izvor EUV zračenja na 13.5 nm

Ablativni kapilarni izboj moguće je uz primjenu posebnih kapilara upotrijebiti kao izvor nakoherentnog EUV zračenja u EUV području. Prednosti ovakvog izvora su jednostavnost i kompaktnost, pri ćemu se postiže svjetlina izvora usporediva sa mnogo složenijim uređajima. Nedostaci su zasada relativno mali broj pulseva, niska repeticija i prisustvo makročestica. Ablativni kapilarni izboj relativno je jednostvan eksperimentalni uređaj u kojem se kroz kapilaru u vakuumu pulsno propuštaju pulsevi jake struje. Električni izboj izaziva površinski proboj na unutarnjoj stijenki kapilare i dovodi do stvaranja plazme sa temperaturom izeđu 10-50 eV. Tako stvorena plazma ima nekoliko vaznih primjena u znanstvenim istraživanjima i mogućim tehnološkim postupcima. Kad se za materijal kapilare odabere PVC sa omekšivačem na bazi kositra, plzma ablativnog izboja postaje snažan izvor zračenja na 13.5 nm, sa vrlo malo zračenja izvan tog područja. Već u prvim pokusima dobivena je svjetlina izvora reda veličine 10 mJ/sr. Literatura [1]. Ž. Andreić, S. S. Ellwi, S. Pleslić and H.-J. Kunze, A simple XUV source at a wavelength of 13.5 nm from an ablative capillary discharge, prihvačeno (9mj 2001) u Surface Review and Letters.

nije evidentirano

nije evidentirano