beta -W faza u tankim filmovima - posljedica naprezanja ili kisika u filmu? (CROSBI ID 490599)
Prilog sa skupa u zborniku | sažetak izlaganja sa skupa
Podaci o odgovornosti
Radić, Nikola ; Tonejc, Antun ; Tonejc, Anđelka ; Djerdj, Igor ; Furlan, Andrej ; Panjan, Peter ; Čekada, Miha ; Jakšić, Milko ; Medunić, Zvonko
hrvatski
beta -W faza u tankim filmovima - posljedica naprezanja ili kisika u filmu?
Tanki filmovi volframa se zbog dobrih osobina široko primjenjuju u tehnologiji, a pojava metastabilne beta -W faze čini ih zanimljivim i za znanstvena istraživanja. U ovom radu prikazaćemo rezultate ispitivanja udjela kisika na pojavu beta -W faze u tankim volframskim filmovima pripravljenim magnetronskom depozicijom. Tanki filmovi volframa pripravljeni su na podlogama od stakla i monokristalnog silicija na sobnoj temperaturi. Ispitan je utjecaj tlaka argona (0.7-3.5 Pa), i parcijalnog tlaka kisika u radnom plinu (do 8%) na fazni sastav filmova. Fazni sastav i mikrostruktura ispitani su metodom rentgenske difrakcije. Rezidualno mikronaprezanje i veličina zrna određeni su analizom oblika difrakcijskih linija, a makronaprezanje je određeno iz deformacije podloge uzrokovane nanešenim filmom. Udio kisika određen je mjerenjem produkcije protona u nuklearnoj reakciji 16O (D, p) 17O. U ispitanom rasponu parametara depozicije, pripravljeni filmovi općenito sadrže i stabilnu ? -W fazu (bcc) i metastabilnu A15 ? -W fazu (W3W), a pri 3, 5 Pa dobiva se amorfična a-W faza. Niži tlak radnog plina povećava udio ? -W faze, dok s porastom tlaka raste udio ? -W faze. Pri tome se makroskopsko naprezanje mijenja od jakog tlačnog (- 2 GPa), prolazi kroz ravnotežno pri 2, 5 Pa, i dosiže 0, 5 GPa vlačnog naprezanja pri 2, 8 Pa tlaka radnog plina. Udio kisika raste približno proporcionalno sa radnim tlakom. Da bi razlučili utjecaj kisika na pojavu ? -W faze, kontrolirano je dodavan kisik u radni plin na ukupnom tlaku od 1, 4 Pa. Do oko 14 at.% ugrađenog kisika dobiveni su ? -W filmovi, a iznad 16 at.% svi su filmovi imali amorfičnu strukturu. U uskom rasponu 14-16 at% ugrađenog kisika filmovi sadrže sve tri faze volframa, pri čemu je udio ? -W faze redovito mali. Zaključujemo da je za pojavu ? -W faze osim dovoljne količine ugrađenog kisika (za stabilizaciju) važna i energija deponiranih volframskih atoma koja određuje način rasta filma.
tanki filmovi volframa
nije evidentirano
engleski
Beta-W phase in thin films
nije evidentirano
tungsten thin films
nije evidentirano
Podaci o prilogu
9-9-x.
2003.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
Zbornik Povzetkov
Jenko, M.
Ljubljana: Društvo za vakuumsko tehniko Slovenije
Podaci o skupu
10. mednarodni znanstveni sestanek Vakuumska znanost in tehnika
poster
22.05.2003-22.05.2003
Brdo kod Kranja, Slovenija