Razvoj i primjena LPCVD metode na Institutu "Rudjer Bošković", Institut za Fiziku (CROSBI ID 753655)
Druge vrste radova | ostalo
Podaci o odgovornosti
Ivanda, Mile
hrvatski
Razvoj i primjena LPCVD metode na Institutu "Rudjer Bošković", Institut za Fiziku
Rast tankih filmova kemijskom depozicijom iz plinske faze pod niskim tlakom (engl. Low Pressure Chemical Vapour Deposition - LPCVD), jedna je od najvažnijih metoda depozicije tankih filmova i predstavlja temelj modernih tehnologija. Razlozi široke primjene LPCVD metode u zadnje dvije decenije leži prvenstveno u mogućnosti deponiranja različitih elemenata i spojeva na relativno niskim temperaturama, u obliku amorfnih i kristaliničnih filmova, sa velikim stupnjem savršenosti i čistoće. Metodu karakterizira jednostavno rukovanje, visoka pouzdanost operacija, jednostavo održavanje, velika brzina depozicije, uniformna debljina sloja i visoka reproducibilnost. Zbog svega toga ova je metoda našla široku primjenu kod depoziciju tankih filmova u poluvodičkoj industriji. U Hrvatskoj LPCVD metoda je postojala samo u bivšoj tvornici poluvodiča RIZ. Uz podršku bivših djelatnika tvornice kao i podrške Ministarstva znanosti i tehnologije, ova tehnologija se je prenjela na Istitut Ruđer Bošković, gdje se je usvojila i nastavila razvijati. U okviru predavanja biti će izložene osnovne postavke LPCVD metode, kao i koncepcija razvoja novih proizvoda (polisilicijski termički grijač i nanosilicijski laser) temeljenih na tehnologiji depozicije tankih filmova.
LPCVD; Raman; nanostrukture
nije evidentirano
engleski
Application and development of the LPCVD method on "Rudjer Boskovic Institute"
nije evidentirano
LPCVD; Raman; nanostructure
nije evidentirano
Podaci o izdanju
Institut za fiziku
2003.
nije evidentirano
objavljeno