hrvatski

Studij kinetike rasta oksidnih filmova na aluminiju u otopinama limunske kiseline

Istraživana je kinetika rasta potenciostatski formiranih oksidnih filmova na aluminiju u otopinama limunske kiseline različitih pH vrijednosti, u ovisnosti o vremenu i potencijalu formiranja. Istraživanje je provedeno primjenom kronoamperometrije (struja-vrijeme tranzijenti) i elektrokemijske impedancijske spektroskopije (EIS). Aparatura korištena za mjerenje sastojala se od EG&G PAR M273A potenciostat/galvanostata i EG&G PAR M5210 "lock-in" operacijskog pojačala kontroliranih putem računala. Rezultati istraživanja pokazuju da se u potenciostatskim uvjetima na aluminiju u otopinama limunske kiseline formiraju tanki oksidni filmovi barijernog tipa. Svojstva potenciostatski formiranih oksidnih filmova studirana su pomoću EIS mjerenja, a rezultati su analizirani u svjetlu kriterija modela točkastih defekata (engl. point defect model - PDM). Uočeno je da pod određenim uvjetima odvijanje površinskih procesa može imati značajan utjecaj na mehanizam prijenosa naboja kao i na kinetiku rasta oksidnog filma na aluminiju u otopinama limunske kiseline.

aluminij; kinetika rasta oksidnog filma; limunska kiseline

nije evidentirano