hrvatski

Istraživanje strukturnih i optičkih svojstava poroznog silicija

Uzorci poroznog silicija (PSi) pripremljeni su elektrokemijskim jetkanjem silicij na izolatoru (SOI) pločica koje imaju 45 μ m debeli površinski sloj p-tipa (111) silicija na podlozi od n-tipa. Kao izolator između ta dva sloja je 100 nm debeli sloj silicijevog dioksida (SiO2). Promijenom koncentracije otopine 48% fluorovodične kiseline u 96% etanolu dobivene su, ovisno o koncentraciji, mikro i nano pore različitih dimenzija. Strukturna i optička svojstva pripremljenih uzoraka istraživana su Ramanovom spektroskopijom, infrecrvenom spektroskopijom (FT-IR) i elektronskom mikroskopijom (SEM). SEM slike površinskog sloja pokazuju veliku gustoću mikrometarskih pora čija je morfologija i gustoća ovisna o koncentaciji. Slike podloge pokazuju nanometarske strukture koje su potvrđene efektima prostornog ograničenja optičkih i akustičkih fonona u Ramanovim spektrima. Proširena je trasverzalna optička vibracijska vrpca kristalnog silicija na 520 cm-1, a istodobno se pojavila široka transverzalna akustička fononska vibracijska vrpca na 150 cm-1 karakteristična za ograničenje kratkog dosega. FT-IR spektri pokazuju vibracijske vrpce Si-Hx i H-Si(Si3-nOn) grupa u rasponu od 2000 to 2300 cm-1. Svi uzorci pokazali su i fotoluminiscentnu (PL)vrpcu.

Porozni silicij; Ramanova spektroskopija; FT-IR; SEM

nije evidentirano