hrvatski

Spektroskopska karakterizacija hladne plazme

U ovom radu je istraživana induktivno vezana kisikova plazma. Pomoću optičke emisijske spektroskopije mjereni su intenziteti pobuđenih stanja kisikovih atoma, kisikovih molekula, molekulskih iona kisika i vodikovih atoma (vodik je prisutan kao nečistoća). Plazma je istraživana u velikom rasponu tlakova (10– 520 Pa) i snaga (50– 300 W). Također su istraživane različite eksperimentalne konfiguracije (mijenjan je položaj zavojnice na cijevi). Intenziteti su mjereni i u ovisnosti o udaljenosti od početka cijevi. Primjećeno je da intenziteti nekih kisikovih linija na 777.4 nm (prijelaz 3p 5P – 3s 5S), 844.6 nm (prijelaz 3p 3P – 3s 5S) i 926.3 nm (prijelaz 3d 5DO – 3p 5P) pokazuju sličnu ovisnost o tlaku i snazi (veći je intenzitet za veće snage i manje tlakove), te slično ponašanje u ovisnosti o udaljenosti. Molekulske vrpce imaju drugačije ponašanje. Intenzitet vrpce molekule kisika O_2^ (0, 0) (b^1 Σ _g^+- X^3 Σ _g^- ) je primjećen na svim udaljenostima od početka cijevi. Intenzitet vrpce molekulskog iona kisika O_2^+ (b^4 Σ _g^-- a^4 Π _u ) je gotovo u potpunosti lokaliziran samo na područje zavojnice. Primjećeno je povećanje intenziteta na velikoj snazi i najmanjem tlaku, što je indikacija prelaska plazme u drugi mod (E-mod u H-mod). Metodom Boltzmannovog dijagrama izmjerena je elektronska temperatura plazme izvan zavojnice od T_e=0.15± 0.02 eV. Rezultati mjerenja raspravljeni su u kontekstu različitih sudarnih procesa.

hladna plazma; optička emisijska spektroskopija; kisik

nije evidentirano