hrvatski

Interakcija magnetrona u kodepozicijskom režimu

U kodepozicijskom režimu pripravljanja tankih filmova slitina magnetronskim rasprašenjem istovremeno je u pogonu više od jednog magnetrona u komori. Pri tome dolazi i do unakrsnog zagađivanja magnetronskih meta materijalom iz susjednih izvora, što se sprječava fiksnim pregradama među njima. Iznad pregrada, plazme proizvedene magnetronskim izbojima međusobno se proniču i izazivaju promjenu režima rada svakog od uključenih magnetrona. Posljedica promjene režima rada je promjena brzine depozicije pojedine komponente, što dovodi do odstupanja stvarnog sastava filma (slitine) od nominalnog sastava očekivanog iz mjerenja brzine depozicije pojedinačnih magnetrona. Budući je sastav slitina jedan od osnovnih parametara u analizi njihovih svojstava, problem određivanja točnog sastava je od interesa za niz metoda karakterizacije. Karakteristike magnetrona koje izravno utječu na sastav materijala pripravljenih kodepozicijom su IV-karakteristike izboja te brzina depozicije kao funkcija snage. Uspoređujući IV-karakteristike mjerene u pojedinačnom radu sa onima mjerenim u simultanom radu dvaju magnetrona registriraju se promjene uslijed njihove interakcije. Interakcija se uglavnom odražava na napon održavanja izboja, koji utječe na energiju iona argona koji rasprašuju mete, iz čega se može ocijeniti promjena brzine depozicije svakog od magnetrona. Na primjerima binarnih slitina Al-Mo, Ni-W i Ag-W usporedit će se njihov nominalni i stvarni sastav (određen metodom RBS), i razlika povezati sa promjenama u režimu rada izazvanih interakcijom dva magnetrona.

magnetron; kodepozicija; interakcija

nije evidentirano