UTICAJ TEMPERATURE DEPOZICIJE NA KORELACIJU POLOŽAJA Ge NANOČESTICA U AMORFNOJ SiO2 PODLOZI (CROSBI ID 544689)
Prilog sa skupa u zborniku | sažetak izlaganja sa skupa | domaća recenzija
Podaci o odgovornosti
Buljan, Maja ; Desnica, Uroš V. ; Dražić, Goran ; Ivanda, Mile, Radić, Nikola ; Dubček, Pavo ; Salamon, Krešo ; Bernstorff, Sigrid ; Holý, Václav
hrvatski
UTICAJ TEMPERATURE DEPOZICIJE NA KORELACIJU POLOŽAJA Ge NANOČESTICA U AMORFNOJ SiO2 PODLOZI
U izlaganju prezentiramo rezultate istraživanja Ge+SiO2)/SiO2 višeslojeva deponiranih metodom rasprašenja u magnetronskom izvoru čestica. Promatramo uticaj temperature depozicije i grijanja nakon depozicije na strukturna svojstva višeslojeva i na korelaciju u položajima formiranih Ge nanočestica. Rezultati prikazuju različite stupnjeve korelacije u položajima nanočestica ovisno o temperaturi depozicije. Osim toga prikazujemo ovisnost širine raspodjele veličina nanočestica, akustičkih modova vibracija i luminiscentnih spektara nanočestica o stupnju korelacije u međučestićnim položajima.
germanij; nanočestice; prostorna korelacija; magnetronska depozicija
nije evidentirano
engleski
The effects of deposition temperature upon spatial correlation of Ge-nanoparticles in SiO2 matrix
nije evidentirano
Germanium; nanoparticles; spatial correlation; magnetron deposition
nije evidentirano
Podaci o prilogu
14-14.
2008.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
15. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika, ZBORNIK SAŽETAKA
Radić, Nikola ; Capan, Ivana
Zagreb: Hrvatsko Vakuumsko Društvo (HVD)
953-98154-2-7
Podaci o skupu
15. Međunarodni sastanak "Vakuumska znanost i tehnika"
poster
04.06.2008-04.06.2008
Varaždin, Hrvatska