Spectroscopic characterization of methane RF-plasma (CROSBI ID 352718)
Ocjenski rad | diplomski rad
Podaci o odgovornosti
Bišćan, Marijan
Milošević, Slobodan
engleski
Spectroscopic characterization of methane RF-plasma
U ovom radu istraživana su svojstva hladne metanove i hladne kisikove plazme pomoću emisijske spektroskopije. Tlak metana bio je u rasponu od 25 do 100 Pa, a prenesena snaga bila je 200 W. Opaženi su spektri atomarnog (Balmerova serija) i molekularnog (Fulcherova vrpca) vodika te kisika (O2 i O2+) , molekularne vrpce CH (A 2Δ - X 2Π ) na 431 nm, CN na 388 nm, CO (Angströmova vrpca) na 450 - 660 nm te OH (A-X) na 309 nm. Simulacije molekularnog prijelaza CH (A-X) pokazale su da je rotacijska temperatura 1500 K, a vibracijska 3000 K te da su obje veće od temperature plina (300 K). Metanska plazma uzrokuje stvaranje ugljikovodičnih slojeva na površini stakla što je promatrano transmisijskom spektroskopijom. Mjerenja na višem tlaku metana dala su manje intenzivan spektar te sporije naparavanje. Prisutstvo dušika također je usporavalo stvaranje tankih slojeva. Čišćenje naparenih slojeva plazmom kisika najuspješnije je bilo na najnižem promatranom tlaku od 30 Pa. Nizak tlak kisika odgovara jako reaktivnoj plazmi što znači da je čišćenje kemijski, a ne mehanički proces. Debljina naparenih slojeva procijenjena je pomoću refleksijske spektroskopije i dala je vrijednosti od 500 nm do 4.5 μ m ovisno o temperaturi supstrata i trajanju naparavanja. Na nižim temperaturama slojevi su pokazali periodička sinusiodalna izvijanja. Za veće temperature i duža naparavanja, došlo je do jačih deformacija, odvajanja od podloge (stakla) te ponegdje pucanja naparenog filma.
optical emission spectroscopy; inductively coupled plasma; methane; thin films
nije evidentirano
nije evidentirano
nije evidentirano
nije evidentirano
nije evidentirano
nije evidentirano
Podaci o izdanju
63
29.04.2009.
obranjeno
Podaci o ustanovi koja je dodijelila akademski stupanj
Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb
Zagreb