Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem (CROSBI ID 559470)
Prilog sa skupa u zborniku | sažetak izlaganja sa skupa | domaća recenzija
Podaci o odgovornosti
Radić, Nikola ; Siketić, Zdravko ; Bogdanović-Radović, Ivančica ; Buljan, Maja ; Desnica, Uroš V. ; Slunjski, Robert ; Pivac, Branko ; Zorc, Hrvoje
hrvatski
Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem
Silicijevi oksidi su vrlo koristan materijal u mikroelektronici i optoelektronici zbog mogućnosti mijenjanja električnog otpora i optičkih osobina promjenom udjela kisika. Pri tome se SiOx<2 slojevi pretežno koriste kao pasivacijski sloj u MIS sklopovima, kao "potrošni" sloj u MEMS tehnologiji, ili kao početni materijal za formiranje kristalnih Si nanočestica u SiO2 matrici, dok se stehiometrijski SiO2 koristi kao izolator u mikroelektronici, optičke presvlake, ili kao podloga za heterogenu katalizu. Pri tome je magnetronsko rasprašenje osobito podesno za depoziciju na velikoj površini. Korištenjem različitih meta za rasprašivanje (Si, SiO, SiO2), u pojedinačnom ili kodepozicijskom režimu, te variranjem udjela kisika u Ar+O2 plazmi, postiže se precizna kontrola sastava SiOx filmova.
SiOx; tanki film; magnetronsko rasprašenje
nije evidentirano
engleski
Thin films of SiOx prepared by magnetron sputtering
nije evidentirano
SiOx; thin film; magnetron sputtering
nije evidentirano
Podaci o prilogu
86-86.
2009.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
Zbornik sažetaka 6. Znanstvenog sastanka HFDa
Buljan, Hrvoje ; Horvatić, Davor
Zagreb: Hrvatsko fizikalno društvo
978-953-7178-12-3
Podaci o skupu
6. znanstveni sastanak Hrvatskog Fizikalnog društva
poster
08.10.2009-11.10.2009
Primošten, Hrvatska