EPR analiza filmova amorfnog Si pripremljenih magnetronskim raspršenjem (CROSBI ID 564147)
Prilog sa skupa u zborniku | sažetak izlaganja sa skupa
Podaci o odgovornosti
Dasović, Jasna ; Slunjski, Robert ; Rakvin, Boris ; Pivac, Branko ; Radić, Nikola ;
hrvatski
EPR analiza filmova amorfnog Si pripremljenih magnetronskim raspršenjem
U ovom radu prezentirano je istraživanje napravljeno tehnikom elektronske paramgnetske rezonancije (EPR) na tankim filmovima amorfnog silicija (a-Si). Filmovi a-Si nanijeti su na podlogu kristaliničnog silicija na sobnoj temperaturi ili su držani na temperaturi od 200°C za vrijeme magnetronskog raspršenja Si mete u atmosferi čistog argona. Na taj način dobiveni uzorci grijani su na različitim temperaturama u vakuumu i istraživani EPR tehnikom. Primjećen je blagi rast broja visećih veza na nižim temperaturama, pad na oko 350°C i veliki rast broja visećih veza na temperaturama većim od 550°C.
EPR; amorfni Si
nije evidentirano
engleski
EPR analysis of amorphous Si films deposited by magnetron sputtering
nije evidentirano
EPR; amorphous Si
nije evidentirano
Podaci o prilogu
2010.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
Zbornik sažetaka 17. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika
Pivac, Branko
Zagreb:
953-98154-2-6
Podaci o skupu
17. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika
poster
01.06.2010-01.06.2010
Tuheljske Toplice, Hrvatska
