hrvatski

Model rasta anodnih filmova na metalima u kiselim otopinama na osnovi impedancisjke spektroskopije

Industrijski postupci obrade površine metala kao što su elektrokemijsko poliranje i anodno sjajenje, u jakim kiselinama, povezani su s naizmjeničnim formiranjem i otapanjem anodnog filma. U ovom radu kao modelni sustav uzet je antimon, u sulfatno kiselom mediju, koji dobro opisuje anodnu oksidaciju metala u koncentriranim kiselinama u ovisnosti o potencijalu, vremenu, ionskoj jakosti otopine i hidrodinamičkim uvjetima eksperimenta. Tijekom anodne polarizacije antimona u sulfatnoj kiselini stvara se površinski film dupleks strukture: vanjski Sb(OH)SO4 film, membranskog karaktera, i unutrašnji, barijerni, Sb2O3 film. Adsorpcija aniona je selektivan proces. Konkurentni procesi formiranja i otapanja filma odvijaju se na različitim mjestima elektrodne površine i rezultiraju kompleksnom strukturom međufazne granice metal / elektrolit. U kinetičkoj shemi sustava metal / anodni film / elektrolit uzeti su u obzir površinski naboji koji se stvaraju na obje međufazne granice.

antimon; oksidni film; kiseli medij

nije evidentirano