Nalazite se na CroRIS probnoj okolini. Ovdje evidentirani podaci neće biti pohranjeni u Informacijskom sustavu znanosti RH. Ako je ovo greška, CroRIS produkcijskoj okolini moguće je pristupi putem poveznice www.croris.hr
izvor podataka: crosbi

Amorfni tanki filmovi slitina aluminija i volframa (CROSBI ID 476804)

Prilog sa skupa u zborniku | sažetak izlaganja sa skupa | domaća recenzija

Radić, Nikola ; Car, Tihomir ; Ivkov, Jovica ; Tonejc, Antun ; Tonejc, Anđelka ; Stubičar, Mirko ; Metikoš-Huković, Mirjana Amorfni tanki filmovi slitina aluminija i volframa // Drugi Znanstveni sastanak HFD-a, knjiga sažetaka / Bosnar, Damir ; Batistić, Ivo (ur.). Zagreb: Hrvatsko fizikalno društvo, 1999. str. 16-16-x

Podaci o odgovornosti

Radić, Nikola ; Car, Tihomir ; Ivkov, Jovica ; Tonejc, Antun ; Tonejc, Anđelka ; Stubičar, Mirko ; Metikoš-Huković, Mirjana

hrvatski

Amorfni tanki filmovi slitina aluminija i volframa

Amorfne binarne slitine volframa i aluminija u obliku tankih filmova zanimljive su kao antikorozijske zaštitne prevlake te protudifuzijske barijere na povišenim temperaturama. Postupkom magnetronske kodepozicije pripravljeni su tanki filmovi slitina aluminija i volframa u rasponu sastava od Al82W18 do Al50W50 na različitim podlogama [1, 3]. Filmovi u rasponu sastava Al82W18-Al62W38 su redovito potpuno amorfni, a pri daljnjem povećanju udjela volframa struktura filma je smjesa amorfne faze i kristalne čvrste otopine. Mjerenjem ovisnosti električnog otpora o temperaturi, uz određivanje strukture rentgenskom difrakcijom na odabranim temperaturama, praćene su promjene strukture do 1000 K. Od 400 K do 800 K procesi strukturne relaksacije u amorfnim filmovima imaju za posljedicu znatan porast el. otpora uz zadržavanje amorfnosti. Pritome je uočljiv utjecaj vrste podloge i temperature depozicije, a usporedbom sa ponašanjem slitina Al-Ti te Cu-Ti, čini se da osjetljivost el. otpora o relaksacciji amorfne strukture dolazi od aluminija. Temperatura kristalizacije (određena naglom promjenom el. otpora i temperaturnog koeficijenta el. otpora) amorfnih Al-W slitina općenito je visoka i ovisi o sastavu: od 800 K za Al80W20 do 900 K za Al65W35. Glavni produkt kristalizacije u svim slučajevima je intermetalni spoj Al4W [2]. Kinetika fazne transformacije interpretirana je pomoću Johnson-Mehl-Avrami teorije modificirane za neizotermne uvjete [5]. Dobra termička stabilnost amorfnih Al-W filmova potvrđena je dugotrajnim izotermnim napuštanjem na visokim subkristalizacijskim temperaturama pri čemu amorfni filmovi samo djelomično kristaliziraju. Mikrotvrdoća amorfnih filmova je oko 7, 5 GPa i slabo ovisi o sastavu, dok sa porastom udjela volframa u području dvofazne strukture značajno raste i dosiže oko 20 GPa za Al50W50. Električna otpornost amorfnih Al-W slitina je u rasponu 200-400 mikroomcm, a temperaturni koeficijent el. otpora ima visoke negativne vrijednosti: od -5, 5 x 10(-4) K(-1) za Al80W20 i postepeno opada do nule za Al50W50 slitinu. Analizom funkcionalne ovisnosti el. otpora o temperaturi procijenjena je Debyeova temperatura amorfnih slitina sastava oko Al70W30 na 450 K [4]. Elektrokemijska mjerenja korozije u tehnološkim i fiziološkim otopinama ukazuju na visoku korozijsku otpornost amorfnih Al-W slitina: u 1 M HCl brzina korozije amorfnih filmova je dva reda veličine manja nego čistog aluminija i približava se čistom volframu [6]. Ukupni dobiveni rezultati čine amorfne tanke filmove Al-W slitina zanimljivim za primjenu. Literatura [1] T.Car, N.Radić: Thin Solid Films, 293 (1997) 78 [2] N.Radić, J.Ivkov, A.Tonejc, T.Car: JVC 7, Debrecen, 1997, Extended Abstracts p.167 [3] N.Radić, A.Tonejc, M.Milun, P.Pervan, J.Ivkov, M.Stubičar: Thin Solid Films, 317(1998) 96 [4] J.Ivkov, N.Radić: Solid State Comm., 106(1998) 273 [5] T.Car, N.Radić, J.Ivkov, E.Babić, A.Tonejc: Appl. Phys. A, 68(1999) 69 [6] M.Metikoš-Huković, N.Radić, Z.Grubač, A.Tonejc: Eurocorr'99, Aachen, Proceedings, Topic 2, p. 65

Amorfni tanki filmovi; Al-W slitine; Magnetronska kodepozicija; Krakterizacija strukture i svojstava

nije evidentirano

engleski

Amorphous thin films of Al-W alloys

nije evidentirano

Amorphous thin films; Al-W alloys; Magnetron cosputtering; Characterisation of structure and properties

nije evidentirano

Podaci o prilogu

16-16-x.

1999.

objavljeno

Podaci o matičnoj publikaciji

Drugi Znanstveni sastanak HFD-a, knjiga sažetaka

Bosnar, Damir ; Batistić, Ivo

Zagreb: Hrvatsko fizikalno društvo

Podaci o skupu

Drugi znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva

poster

01.12.1999-03.12.1999

Zagreb, Hrvatska

Povezanost rada

Fizika, Kemija