Nalazite se na CroRIS probnoj okolini. Ovdje evidentirani podaci neće biti pohranjeni u Informacijskom sustavu znanosti RH. Ako je ovo greška, CroRIS produkcijskoj okolini moguće je pristupi putem poveznice www.croris.hr
izvor podataka: crosbi !

DEPOZICIJA I KARAKTERIZACIJA TANKIH SLOJEVA NESTEHIOMETRIJSKOG AMORFNOG SILICIJEVOG NITRIDA (CROSBI ID 368854)

Ocjenski rad | diplomski rad

Tijanić, Zdenko DEPOZICIJA I KARAKTERIZACIJA TANKIH SLOJEVA NESTEHIOMETRIJSKOG AMORFNOG SILICIJEVOG NITRIDA / Ivanda, Mile (mentor); Zagreb, Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb, . 2010

Podaci o odgovornosti

Tijanić, Zdenko

Ivanda, Mile

hrvatski

DEPOZICIJA I KARAKTERIZACIJA TANKIH SLOJEVA NESTEHIOMETRIJSKOG AMORFNOG SILICIJEVOG NITRIDA

DEPOZICIJA I KARAKTERIZACIJA TANKIH SLOJEVA NESTEHIOMETRIJSKOG AMORFNOG SILICIJEVOG NITRIDA

LPCVD; SiNx; Raman

nije evidentirano

engleski

DEPOSITION AND CHARACTERIZATION OF NONSTOHIOMETRIC AMORPHUS SILICON NITRIDE THIN FILMS

nije evidentirano

LPCVD; SiNx; Raman

nije evidentirano

Podaci o izdanju

84

15.12.2010.

obranjeno

Podaci o ustanovi koja je dodijelila akademski stupanj

Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb

Zagreb

Povezanost rada

Fizika