hrvatski

Fotooksidativna razgradnja aromatskih onečišćivala u vodi

U ovom radu je istraživan utjecaj tipa supstituenta te procesnih parametara UV/H2O2 procesa na razgradnju četiri aromatska onečišćivala korištenjem faktorskog plana 33 i metode odzivnih površina. Izveden je kvadratni polinom za opis kinetike razgradnje studiranih onečišćivala u ovisnosti o promjenama istraživanih parametara procesa te strukture onečišćivala. Sukladno rezultatima analize varijance za razvijeni model odzivnih površina, tj. izvedeni kvadratni polinom, utvrđeno je da uz oba procesna parametra (pH i [H2O2]), struktura onečišćivala značajno utječe na njegovo predviđanje ponašanja istraživanog sustava. Korištenjem istovjetne metodologije odzivnih površina za svako pojedino onečišćivalo, ustanovljeni su različiti optimalni uvjeti te različite konstante brzine razgradnje ; to se može pripisati važnosti tipa supstituenta koji znatno utječe na ukupnu učinkovitost procesa preko razgradnog puta samog onečišćivala. Određivana je biorazgradivost (BPK5/KPK) i toksičnost (TU) modelnih otpadnih voda prije i tijekom obrade UV/H2O2 procesom u referentnim vremenima t1/2(P), t3/4(P), t1/4(OC) i t1/2(OC) koji odgovaraju realnim vremenima potrebnima za smanjenje koncentracije početnog onečišćivala i ukupnog organskog sadržaja za 1/4, 1/2 i 3/4 od početnih količina. Primjećene razlike posljedica su strukturnih razlika aromatskih ispitivanih onečišćivala.

otpadna voda; aromatska onečišćivala; fotooksidacija; metoda odzivnih površina; biorazgradivost; toksičnost

Asistent: Kušić, Hrvoje