Studij rasta barijernog filma na volframu u otopini klorovodične kiseline (CROSBI ID 482337)
Prilog sa skupa u zborniku | izvorni znanstveni rad | domaća recenzija
Podaci o odgovornosti
Grubač, Zoran ; Metikoš-Huković, Mirjana
hrvatski
Studij rasta barijernog filma na volframu u otopini klorovodične kiseline
Visoka korozijska otpornost volframa u korozivnom mediju kao što je 1,0 mol dm-3 otopina HCl pripisana je svojstvima oksidnog filma. Kvantitativni podaci o električkim, dielektričkim svojstvima tog filma, kinetičkim parametrima njegovog formiranja i rasta, u rasponu potencijala od 7 V, dobiveni su iz rezultata impedancijske spektroskopije.
volfram; oksidni film; visoko polje; impedancijska spektroskopija
nije evidentirano
engleski
A study of the growth of a barrier film on tungsten in hydrochloric acid solution
nije evidentirano
tungsten; oxide film; high field; impedance spectroscopy
nije evidentirano
Podaci o prilogu
103-106-x.
2001.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
Zbornik radova, 2. Hrvatski simpozij o elektrokemiji
Gojo, Miroslav
Zagreb: Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI)
Podaci o skupu
2.Hrvatski simpozij o elektrokemiji
predavanje
17.09.2001-20.09.2001
Primošten, Hrvatska
