Profiliranje indeksa loma tankih oksidnih slojeva (CROSBI ID 482437)
Prilog sa skupa u zborniku | sažetak izlaganja sa skupa | međunarodna recenzija
Podaci o odgovornosti
Janicki, Vesna ; Zorc, Hrvoje
hrvatski
Profiliranje indeksa loma tankih oksidnih slojeva
Modeli sinteze tankoslojnih sustava pretpostavljaju da su svi slojevi u sustavu homogenog indeksa loma. Međutim, zbog nukleacije i rasta tankog sloja, dolazi do promjena indeksa loma za vrijeme formiranja sloja. Ta je promjena najizraženija pri prvom sloju višeslojnog sustava koji graniči s amorfnom podlogom. Snimljeni su transmisijski spektri različitih oksidnih materijala u tankom sloju i izmjerene elipsometrijske funkcije na više valnih duljina i pod različitim kutovima. Analizirano je nekoliko oskidnih materijala i to: ZrO2, Y2O3, TiO2 i CeO2. Rezultati su pokazali da su dobiveni profili indeksa loma različiti za različite materijale što je protumačeno njihovim različitim načinima nukleasije i rasta
indeks loma; reversno oblikovanje
nije evidentirano
engleski
Profiling of the refractive index of thin oxide films
nije evidentirano
refractive index; reverse engineering
nije evidentirano
Podaci o prilogu
17-x.
2001.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
Zbornik povzetkov, 8. mednarodni znanstveni sestanek Vakuumska znanost in tehnika
Belič, Lidija
Ljubljana: Vakuumsko društvo Slovenije
Podaci o skupu
8. Mednarodni znanstveni sestanek Vakuumska znanost in tehnika
predavanje
23.05.2001-23.05.2001
Brdo, Slovenija
