hrvatski

Strukturna stabilnost amorfnih Al78W22 tankih filmova ispod temperature kristalizacije

Amorfni filmovi Al78W22 slitine pripravljeni su postupkom kodepozicije rasprašenih čestica iz dva magnetrona na korundne, safirne i staklene podloge koje su tijekom depozicije držane na jednoj od četiri temperature: tekućeg dušika, sobnoj, 200°C ili 400°C. Njihova stabilnost ispod temperature kristalizacije (840K) ispitana je kontinuiranim in-situ mjerenjem promjena električnog otpora te praćenjem promjena strukture filma metodom rentgenske difrakcije na odabranim temperaturama, odnosno vremenskim intervalima, tijekom dvije vrste termičkog tretmana: a) izokronim zagrijavanjem pripravljenih uzoraka do 790K, izotermnim napuštanjem na toj temperaturi u trajanju od 6 sati, te hlađenjem na sobnu temperaturu. Tijekom prvog zagrijavanja pripravljenog uzorka dolazi da značajne ireverzibilne promjene električnog otpora. Ova promjena je to manja što je brzina porasta temperature veća, vjerojatno zbog pretezanja utjecaja termičkog koeficijenta električnog otpora nad relaksacijom amorfne strukture filma. Depozicija na podloge držane na povišenoj temperaturi također znatno smanjuje iznos ireverzibilne promjene el. otpora. b) izotermno napuštanje na visokim podkristalizacijskim temperaturama (803, 813, i 823 K) tijekom nekoliko desetka sati dovodi do djelomične kristalizacije amorfne slitine u intermetalni spoj Al4W. Analiza fazne transformacije u okviru Johnson-Mehl-Avrami modela daje Avrami koeficijent = 1, ukazujući na nukleaciju kao mehanizam kristalizacije. Dobiveni rezultati pokazuju da pripravljeni amorfni Al78W22 filmovi zahtijevaju napuštanje na povišenoj temperaturi za postizanje strukturne stabilnosti, koja se potom održava i pri dugotrajnom zagrijavanju na visokim podkristalizacijskim temeperaturama.

nije evidentirano

nije evidentirano