hrvatski

Utjecaj uvjeta depozicije na pojavu beta-faze u tankim volframskim filmovima

Tanki volframski filmovi pripravljeni su magnetronskim rasprašenjem na staklene podloge (11 mm dia, debljina 1, 0 odnosno 0, 15 mm). Ispitivan je utjecaj tlaka radnog plina u rasponu 0, 7 - 2, 8 Pa, temperature podloge (LN2, RT, 250°C) i trajanja depozicije/debljine filma (15, 30, 60 min) na pojavu metastabilne beta-W faze u pripravljenim filmovima. Struktura i fazni sastav ispitivani su metodom rentgenske difrakcije, a rezidualna naprezanja u filmu određeni su analizom oblika i položaja difrakcijskih linija odnosno mjerenjem deformacije tankih (0, 15 mm) staklenih podloga uslijed naprezanja u deponiranom filmu. Pripravljeni filmovi sadrže smjesu faza: alfa-W sa stabilnom b.c.c. strukturom i beta-W sa metastabilnom A15 (W3W) strukturom. Udio alfa-W raste s povećanjem debljine filma i porastom temperature podloge - u filmu deponiranom na 200°C rentgenski je vidljiva samo stabilna alfa-faza. S porastom tlaka radnog plina naprezanja u filmu prelaze iz tlačnih u vlačna, a udio beta-faze raste. Analiza utjecaja tlaka argona i temperature podloge na rezidualna naprezanja te fazni sastav pripravljenih filmova pokazuje jasnu korelaciju, što omogućuje odabir optimalnih parametara za depoziciju stabilnih i strukturno relaksiranih volframskih filmova.

nije evidentirano

nije evidentirano