crta
Hrvatska znanstvena Sekcija img
bibliografija
3 gif
 Naslovna
 O projektu
 FAQ
 Kontakt
4 gif
Pregledavanje radova
Jednostavno pretraživanje
Napredno pretraživanje
Skupni podaci
Upis novih radova
Upute
Ispravci prijavljenih radova
Ostale bibliografije
Slični projekti
 Bibliografske baze podataka

Pregled bibliografske jedinice broj: 877006

Zbornik radova

Autori: Jelovica Badovinac, Ivana; Šarić, Iva; Kavre Piltaver, Ivna; Ambrožić, Gabriela; Peter, Robert; Petravić, Mladen
Naslov: Narastanje tankih filmova titanovog nitrida i titanovog oksida tehnikom depozicije atomskih slojeva
( Growth of thin films of titanium nitride and titanium oxide by atomic layer deposition technique )
Izvornik: Knjiga sažetaka: 9. znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva, Umag, 5.-7. listopada 2015. / Smolčić, Vernesa ; Bilušić, Ante ; Buljan, Maja ; Gašparić, Igor ; Horvatić, Vlasta ; Kumerički, Krešimir ; Kotnik-Karuza, Dubravka ; Milošević, Slobodan ; Planinić, Mirko ; Požek, Miroslav ; Stanić, Denis ; Tomić, Silvia (ur.). - Zagreb : Hrvatsko fizikalno društvo , 2015. 80 (ISBN: 78-953-7178-17-8).
Skup: 9. znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva
Mjesto i datum: Umag, Hrvatska, 7.-9.10.2015.
Ključne riječi: titan nitrid, titan oksid, depozicija atomskih slojeva
( titanium nitride, titanium oxide, atomic layer deposition )
Sažetak:
Jedan od najčešće korištenih materijala u biomedicini i stomatologiji (npr. za izradu ortopedskih implantata, stentova ili žica za ortodontske aparate) jest nitinol, legura nikla i titana. Nitinol ima čitav niz jedinstvenih svojstava, poput pamćenja oblika, superelastičnosti ili otpornosti na izvijanje [1]. Ipak, prisutnost nikla u ovoj leguri na površini materijala ili njegovo ispuštanje iz samog materijala u ljudski or- ganizam, predstavlja značajan problem, prvenstveno zbog toksičnosti i alergenskih svojstava nikla [2]. Zbog toga je modifikacija površine nitinola u svrhu povećanja njegovih antikorozivnih svojstava i biokompatibilnosti značajna za biomedicinsku pri- mjenu ovoga materijala. Jedan od načina sprječavanja ispuštanja nikla jest stvaranje zaštitnih, biokompatibilnih filmova na površini nitinola, poput titanovog nitrida (TiN) ili titanovog dioksida (TiO2). Dok se TiO2 filmovi mogu dobiti relativno lako različitim metodama, uključujući i termalnu [3], TiN je veoma teško ostvariti zbog visoke reaktivnosti Ti s kisikom. U ovom radu predstavljamo metodu narastanja tankih filmova kontrolirane debljine na nanometarskoj skali TiN i TiO2 na različitim podlogama, uključujući nitinol, korištenjem uređaja za depoziciju atomskih slojeva (ALD tehnike). Fizička i kemijska svojstva narastanih filmova ispitivana su spektroskopijom fotoelektrona rentgenskim zrakama (XPS), pretražnim elektronskim mikroskopom (SEM) i masenim spektrometrom sekundarnih iona (SIMS).
Vrsta sudjelovanja: Poster
Vrsta prezentacije u zborniku: Sažetak
Vrsta recenzije: Nema recenziju
Izvorni jezik: HRV
Kategorija: Znanstveni
Znanstvena područja:
Fizika
Upisao u CROSBI: Ivna Kavre Piltaver (ivna.kavre@uniri.hr), 24. Svi. 2017. u 11:31 sati



Verzija za printanje   za tiskati


upomoc
foot_4